近期有投资者向中芯世界发问：董秘你好，招股书说到中芯世界具有现在中国大陆最大、最先进的光掩膜制作设备，可出产0.35微米—14纳米各技能节点的光掩膜产品，请问贵公司光掩膜版是不是彻底无需外购，自己就能够处理？

　　光掩膜一般也称光罩、掩膜版，在半导体制作的整个流程中，其间一部分是从地图到晶圆制作的一个进程，这一部分是流程联接的要害部分，是流程中造价最高的一部分，也是约束最小线宽的瓶颈之一。

　　光掩膜技能是光刻工业中一个重要环节，光掩膜作为集成电路的原始模板，经过光刻技能将掩膜板上的电路图画复制到晶圆上，然后批量化出产芯片等产品。

　　不过独立光掩膜商场集中度很高，Photronics、大日本印刷DNP和日本凸版印刷Toppan 三家占有80%以上的商场份额。

　　台积电决议出资187亿元，用于建造月产能4万片芯片的南京代工厂，完结28nm芯片制程的产能扩产，估计2022年完结投产，2023年到达出产方针。

　　业界人士表明，台积电建造南京代工厂此举可能是想进一步阻止中芯世界的开展，然后安定自身在商场上的位置。

　　中芯世界在先进工艺上的发展一直触动商场目光，依据中芯世界官网介绍，公司现在的最先进工艺是14nm，接下来的是N+1、N+2工艺，但未指明详细的工艺节点。

　　11日有风闻称，中芯世界现在能够脱离EUV光刻机处理类7mm工艺，不过中芯世界还未给予回应。

　　梁孟松在2020年末对外表明，中芯世界已完结28nm—7nm芯片研制使命，估计很快进行7nm芯片危险试产；

　　数据显现，中芯世界芯片制程产能利用率已达100%，且部分老练工艺订单排到了下一年，更为要害的是，中芯世界正在深圳建造一家芯片代工厂，投资额23.5亿美元。