球王会官方ASML该着急了! 华为突破EUV光刻机关键技术

　　光刻机是非常复杂的半导体设备，如果是的EUV光刻机，还会用上10万个零部件，涉及全球5000多家供应商。因此光刻机不是一家公司或者一个国家地区能独立制造出来的，是全球化的成果。

　　但再难的技术也是一点一滴积累起来的，中国厂商，科研机构不断努力，华为就突破了一项EUV光刻机关键技术。恐怕ASML该着急了。

　　各国加紧芯片制造行业布局，美国拿出520亿美元的补贴，欧盟也制定了430亿欧元的芯片补贴计划，中国制定了70%的芯片自给率目标。要想在芯片制造行业占据一席之地，那么光刻机设备是不可或缺的。

　　ASML是主要的光刻机供应商，与国内客户有密切往来，只不过这家公司受到美国规则的限制，无法对中国自由出货的EUV光刻机。进口这条路行不通，只能靠自研了。

　　问题是制造光刻机有多难？其实难度是非常高的，因为它需要高度精密的技术和材料，用于将芯片设计图案转移到硅片上。光刻机需要具备高分辨率、高精度、高速度等特点，能够在极其微小的尺度下进行精确的刻画。

　　此外，光刻机的制造需要掌握多种领域的技术，如光学、机械、电子等，需要投入大量的研发和制造成本。别的暂且不说，光刻机的四大件就足以耗费几十年的研发历程。

　　尽管光刻机的研发难度很高，ASML还是担心在欧美限制出口的情况下，中国会加速国产光刻机的研发，并直言物理规则在中国也是有效的。

　　ASML这是担心中国有朝一日取得技术突破，替代ASML的光刻机市场份额。事实证明，中国企业已经在加速布局了，就比如华为突破了一项EUV光刻机关键技术。

　　这是一项技术专利，名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，该专利涉及光学领域，主要作用是进行匀光调试。

　　不只是华为，国内也存在许多EUV光刻机领域的技术突破，包括华中科大成功推出OPC软件，哈工大破冰激光干涉仪，长春光机所突破EUV光源工程化样机等等。

　　也许这些突破进展还无法构成整体的EUV光刻机设备，但有了一点一滴的积累之后，未来就有可能实现厚积薄发。恐怕ASML该着急了，正如ASML所预见的一样，中国在加速国产光刻机的研发，迟早会走上替代化之路。

　　上海微电子是国内唯一的整机光刻机厂商，可实现90nm光刻机的量产，而针对更先进的制程工艺，相信也在研究中。

　　既然有诸多进展已经亮相，是否意味着中国芯赢了呢？或许还需要保持客观理性的态度，在没有走到最后一步之前，不能过早下定论，也不能轻易否定已有的科研成果。

　　美国不断扩大限制范围，联合荷兰，日本达成协议，要对DUV光刻机以及几十项半导体设备实施出口管制。自主研发显得刻不容缓，对此，国产光刻机该如何布局应对呢？

　　首先投入更多的资金和人力资源，加快自主技术的研发。中国已经在光刻机领域取得了一定的进展，但还需要进一步提高技术水平，实现自主可控。

　　其次加强与国际领先企业的合作。中国可以与其他国家的光刻机企业进行合作，共同研发高端光刻机，并在技术创新和市场开拓方面加强合作。

　　另外降低对进口光刻机的依赖。中国可以鼓励本土企业加强对光刻机的研发和生产，减少对进口光刻机的依赖，提高自主创新能力。

　　除了这些，中国可以通过加强知识产权保护，保护自主研发的技术成果，防止技术被盗窃或侵权。有了夯实的知识保护体系之后，才能引导更多的厂商参与研究。

　　综合来看，中国需要通过多种方式来应对ASML被美国限制无法向中国出售EUV光刻机的情况，实现自主可控，提高技术水平，促进产业升级。ASML虽然积极向中国市场出货，但只能销售旧款设备，如果一直依赖进口，很难跻身高端光刻机产业。

　　所幸有华为这些厂商攻坚克难，突破一项又一项EUV光刻机关键技术，待最终组成完整的体系，相信一切都会水到渠成。